Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
Elektronenstrahllithografie — Die Elektronenstrahllithografie (ESL, englisch electron beam lithography oft als e beam lithography abgekürzt) ist in der Mikro und Halbleitertechnik ein spezielles Verfahren zur Strukturierung einer Elektronenstrahl empfindlichen Schicht… … Deutsch Wikipedia
Fotolithografie (Halbleitertechnik) — Die Fotolithografie (auch Photolithographie) ist eine der zentralen Methoden der Halbleiter und Mikrosystemtechnik zur Herstellung von integrierten Schaltungen und weiteren Produkten. Dabei wird mittels der Belichtung das Bild einer Fotomaske auf … Deutsch Wikipedia
champ d'exposition — eksponuojamasis laukas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure field vok. Belichtungsfeld, n rus. поле экспонирующего излучения, f pranc. champ d exposition, m … Radioelektronikos terminų žodynas
eksponuojamasis laukas — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure field vok. Belichtungsfeld, n rus. поле экспонирующего излучения, f pranc. champ d exposition, m … Radioelektronikos terminų žodynas
exposure field — eksponuojamasis laukas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure field vok. Belichtungsfeld, n rus. поле экспонирующего излучения, f pranc. champ d exposition, m … Radioelektronikos terminų žodynas
поле экспонирующего излучения — eksponuojamasis laukas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. exposure field vok. Belichtungsfeld, n rus. поле экспонирующего излучения, f pranc. champ d exposition, m … Radioelektronikos terminų žodynas
